一、有掩膜光刻机UVLitho-Y产品介绍:
(1)当代集成电路的发展进程中,紫外光刻技术起着不可替代的作用。利用紫外光源对紫外敏感的光刻胶进行空间选择性的曝光,进而将设计好电路版图转移到硅片上形成集成电路,这一工艺就是紫外光刻技术。光刻机的分辨率和套刻精度直接决定了所制造的集成电路的集成度,也成为了评价光刻设备品质的关键指标。
(2)常规光刻机需要定制光学掩模板,不但价格高,且灵活性差。任何设计上的变动,都需要重新制造掩模板。激光直写设备具备很高的灵活性,且可以达到较高的精度,但由于是逐行扫描,曝光效率较低。近些年,基于空间光调制器(DMD/DLP)的技术在紫外曝光方面获得了长足的进展。
(3)UVLitho-Y是一款桌面型无掩模板紫外光刻机。z小分辨率可达1.5um(光刻镜头A),高性能无铁芯直线驱动电机保证了z佳的套刻精度和z大2英寸的图形拼接,而基于空间光调制器的光刻技术,使得其在光学掩模板设计上有着得天独厚的优势。高效、灵活、高分辨率和高套刻精度等众多优点,必将使其成为二维材料、电输运测试,光电测试、太赫兹器件和毫米波器件等领域的科研利器。
二、有掩膜光刻机UVLitho-Y特点:
1.所见即所得的精准套刻
2.高稳定性,操作便捷
3.光刻图案设计灵活
4.z小特征线宽1.5μm
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有掩膜光刻机高稳定性,操作便捷